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通信中主要的调制技术及未来趋势
1、通信中主要的调制技术分为直接调制和外调制两大类。直接调制技术以直接调制激光器（DML）为代表，通过在激光器上加载数据，使得激光器的输出光功率变化，实现光信号的强度调制。目前，DML在研究中已经实现了高达40~100 Gb/s的调制速度。
2、未来通信技术主要以数字通信为发展方向。随着光纤通信的不断发展，有线通信将以光纤通信为发展方向，当前主要研究单模长波长光纤通信、大容量数宇传输技术和相干光通信。
3、作为未来第三代移动通信系统主流无线接入技术的WCDMA(宽带码分多址)能够更高效地利用无线电频率。它利用分层小区结构、自适应天线阵和相平解调(双向)等技术，网络容量可得到大幅提高，可以更好地满足未来移动通信的发展要求。
4、光器件产业是近年光通信发展势头最为迅猛的领域，技术走向集中在面向智能光网络的光电子器件和日益高速化的光器件，未来通信手段中光通信将成为主流，包括近期硅光子技术成就芯片间数据传输最快速度，趋势所在。
5、年，光通信行业前景看好，正朝着超高速、大容量、长距离传输和低能耗的未来趋势发展。5G和6G的部署对光通信系统提出更高需求，推动光纤宽带技术不断升级，包括空分复用、频谱效率提升和新型调制编码技术的应用。量子通信与光通信的融合为信息安全提供了新的可能。
几种常见的光调制器
声光调制器(AOM)AOM是利用声光效应将电信号加载于光载波上的一种物理过程。其优点包括广泛的波长支持、支持较高光功率场景以及移频功能。然而，AOM开关速度和插入损耗之间存在相互影响，且体积大、功耗高，使用时需关注总成本。电光调制器(EOM)EOM是利用电光晶体的电光效应进行调制。
一般光纤通讯系统中的外调制器包括四类：①声光(AO)调制器；②磁光调制器，即Farady调制器；③电光(EO)调制器④电吸收(EA)调制器。
常见的声光调制器有喇曼-奈斯型调制器（反射式调制器），前者是利用调制信号发生变化，导致衍射光强发生变化，因而通过光束的零级衍射光强发生变化，从而输出调制光；后者是通过输出光频率随调制信号的频率变化来对输出光起到调制作用。
单E1光端机：单E1光端机是一种将G.703的E1信号调制到光纤上传输的设备。单V.35光端机：单V.35光端机提供一个成帧N*64Kbit/s的V.35数据接口。以太网光端机（2M带宽）：2M带宽以太网光端机提供一个2M带宽的以太网接口。（与单E1光端机和E1转换器配合使用）。
在科研领域，除了我们熟知的LCSLM（液晶空间光调制器）外，另一种常见的空间光调制器件是DMD（数字微镜器件）。让我们深入探讨两者之间的差异。DMD是一种由高速数字光反射镜组成的阵列，每个小镜片代表一个像素，通过旋转反射镜实现光的开关控制。
使用PWM调光 PWM（脉冲宽度调制）是一种常见的调光方法。通过快速地开关LED灯的电源，以不同的占空比（即开启时间与总周期的比例）来控制灯的亮度。高占空比会使灯光更亮，而低占空比则会使灯光变暗。
电光材料性能要求
光学均匀性要求电光器件中的晶体具备特征模间的偏光干涉特性，因此，材料的光学均匀性需小于10~scm一，以避免开关关不死、光强调制度以及偏转分辨率的下降。良好的开关器件需要消光比达到80 dB以上，以确保材料的高光学均匀性。
平方电光材料，其效应与调制电场呈二次关系，因此在应用中，其对光波的调制能力更加强大。在光开关、调制器等设备中，平方电光材料能够提供更高效的性能。对于更高次电光材料，其效应与调制电场的关系更为复杂，通常涉及更高阶的数学模型。
DKDP和ADP晶体有高的光学 质量和高的光损伤闭值，但是其半波电压较高，而且要 采用防潮解措施。LN和LT晶体有低的半波电压，物 化性能稳定，但是光损伤闭值较低，常用于低、中功率 激光器。在红外波段，实用的电光材料有砷化稼 (GaAs)和啼化锡(CdTe)等半导体晶体 。
性能要求在技术应用中，首先考虑电光材料的光 学和电学性能；此外，还要考虑其效应，以及受外界温 度、应力等干扰时的稳定性。
电光纸的防水性能：大部分电光纸的表面具备基本的防水功能。 特殊材料的应用：为了满足部分包装的需求，市场上也存在吸水性良好的电光纸。 吸水性与性能的关系：吸水电光纸的吸水性直接影响了其性能表现。 水上升高度：电光纸在水中的上升高度大约在2至5厘米之间，有时甚至可以达到6厘米。
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